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一、球形二氧化硅定义
主要成分为 SiO₂,大多为无定形(非晶)球形颗粒,行业俗称球形硅微粉;区别于棱角状普通结晶硅微粉,是高端树脂体系核心无机填料。
物相:无定形二氧化硅(熔融球形)
SiO₂纯度:99.5%~99.99%(电子级≥99.9%)
球化率:工业主流≥93%,高端电子级≥96%
莫氏硬度:6~7
粒径区间:0.5μm~40μm(可分级、复配粒径实现密堆积)
表面类型:亲水原生粉 / 硅烷改性疏水粉
火焰熔融法(国内量产主流)
角形硅微粉高温熔融,依靠表面张力冷却成球;性价比均衡,广泛用于 CCL、环氧灌封、普通塑封料。
等离子熔融法
球化率、纯度更高,粒径可控,面向高端半导体封装,成本偏高。
溶胶 - 凝胶化学合成法
纳米级单分散小球,多用于化妆品、层析填料,很少大规模工业填充。
环氧塑封料 EMC:芯片封装填料,降低 CTE,保护半导体元器件;
高频高速覆铜板 CCL、积层胶膜:降低介电损耗,提升板材尺寸稳定性(5G、服务器 PCB);
电子灌封胶、底部填充胶 UF、导热环氧;
提示:高端芯片场景选用低 α 射线球形粉,避免软错误。

